超纯水的源泉半导体设备的精密之道

半导体制造业对水的要求极高，需要超纯水来清洗和浸没晶片，以确保生产出的芯片质量。

超纯水设备采用多级滤膜和逆渗透技术等先进工艺，可以去除水中的杂质，如重金属、有机物、微生物等，从而达到PPB级别（部分每百万）。

在实际操作中，半导体超纯水设备通常由一系列模块组成，其中包括预处理模块、净化模块、高级净化模块以及存储与分配系统。每个模块都有其特定的功能和作用。

预处理模块主要负责去除大颗粒物和悬浮固体，这些较大的污染物会通过过滤网或沉淀器被移除。而在净化模块中，则使用了反渗透膜，这种薄膜具有非常小的孔径，只能让溶解在水中的离子通过，同时将其他杂质排斥出去。

高级净化阶段则更加精细，它可能包含紫外线消毒、活性炭吸附或其他特殊处理手段，以进一步减少含量极低但对半导体加工至关重要的污染物。最后，存储与分配系统会确保超纯水按照不同的需求进行调节和分配给不同步骤使用。